超軽量形状記憶マグネシウム合金の開発－従来材に比べ... | プレスリリース | 東北大学 -TOHOKU UNIVERSITY-
http://www.tohoku.ac.jp/japanese/2016/07/press20160721-01.html
http://www.tohoku.ac.jp/japanese/newimg/pressimg/tohokuuniv-press20160721_01web.pdf


　東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻の小川由希子博士後期課程学生、須藤祐司准教授、安藤大輔助教、小池淳一教授の研究グループは、形状記憶特性を示すマグネシウム合金の開発に成功しました。

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【プレスリリース】工業材料で製作した熱化学法ISプロセス水素製造試験装置による水素製造に成功 ―実験室段階から高温ガス炉による水素製造の研究開発が前進― - 日本の研究.com
https://research-er.jp/articles/view/44630


発表のポイント

熱化学法ISプロセスの研究開発において、世界でも例の少ない、工業材料製の水素製造試験装置を用いた3反応工程の連結による水素製造試験に成功。

本試験の成功により、高温ガス炉へ接続する実用ISプロセスの完成に向けて大きく前進。

国立研究開発法人日本原子力研究開発機構（理事長　児玉敏雄、以下「原子力機構」という。）では、茨城県大洗町において、高温ガス炉1）の熱を利用するための熱化学法ISプロセスによる水からの水素製造技術の研究開発を実施しています。本プロセスは、将来950℃の高温の熱を供給できる高温ガス炉と組み合わせることで、炭酸ガスを排出することなく、大量の水素を高効率・低コストで製造するシステムを構築することが期待されます。

熱化学法ISプロセスは、ヨウ素（I）と硫黄（S）を用いた3つの化学反応を組み合わせて水を分解する化学プロセスであり、腐食性のある流体の温度・種類が異なる3反応工程（硫酸分解工程、ブンゼン反応工程、ヨウ化水素（HI）分解工程）で構成されます。工業化を見据え、実験室段階（反応器などをガラスで製作）に続く取り組みとして、3反応工程毎の環境に耐え得る工業材料（金属、セラミックス等）を用いて反応器を開発し、これらの反応器を3反応工程へそれぞれ組み込んだ世界最先端の装置を製作しました。この度、各反応工程別の機能確認に加え、世界でも例の少ない3反応工程を連結した水素製造試験装置の試運転に成功し、実用化に向けた研究開発が大きく前進しました。

今後、水素製造試験装置の試運転で明らかになったヨウ素の析出防止対策等の改良を行い、3反応工程を連結したより安定的な水素製造を目指します。本格的な試験により、運転制御性、長時間運転安定性、機器耐食性の確証など、水素製造システムの実用化に必要な研究開発を進めていく予定です。さらに、HTTR（高温工学試験研究炉）2）を用いて、世界で初めて原子力による水素製造を実証することを目標としています。

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産総研：世界最高レベルのQ値を有する光ナノ共振器の大量作製に成功
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2016/pr20160316/pr20160316.html


研究成果のポイント

•工業生産に適したフォトリソグラフィ法を使用し、従来の100万倍のスピードで作製
• 世界最高レベルのQ値（注１）150万を達成、超高Q値光ナノ共振器の普及へ
• シリコンレーザーや光メモリー、簡便に使える医療診断センサーの開発等応用に期待


研究概要

　公立大学法人大阪府立大学（理事長：辻 洋）工学研究科の高橋和准教授と、国立研究開発法人産業技術総合研究所（理事長：中鉢 良治） 電子光技術研究部門の森雅彦研究部門長、岡野誠研究員の研究グループは、世界で初めて、工業生産に適したフォトリソグラフィ法を用いて、100万以上のQ値を有する光ナノ共振器を作製することに成功しました。

　シリコンフォトニック結晶（注２）を用いた光ナノ共振器（注３）は、100万を超える非常に高いQ値を実現しており、光を微小領域に強く閉じ込めることが可能です。
この特長を生かしたさまざまな光素子が研究されており、IoT時代を切り開くシリコンレーザー（注４）、光集積回路で重要となる光メモリー（注５）、どこでも簡便に使える医療診断センサー（注６）などが例として挙げられます。
とくに、近年開発され注目を集めている超低消費電力シリコンラマンレーザー（注７）は、100万以上のQ値を持つ光ナノ共振器が必要不可欠とされています。

　しかし、これまで実現してきたQ値100万以上の光ナノ共振器は全て、電子線リソグラフィ法により作製されたものでした。
産業応用を実現するには、半導体製造で一般的なフォトリソグラフィ法（電子線リソグラフィの100万倍の生産性を持つ）を用いて大面積ウエハー上に一括作製することが重要です。

　一般的に、光ナノ共振器は、非常に小さな空気孔（直径200ナノメートル程度）を周期的に配列した構造からなるため、リソグラフィに高い精度が要求されます。
また、リソグラフィ以外の作製工程でも多くの工夫が必要になります。
そのため、100万以上のQ値を実現することは、電子線リソグラフィ法を用いたとしても容易ではなく、微細パターン形成の精度が劣るとされるフォトリソグラフィ法と、柔軟性に欠ける半導体製造プロセスでは、Q値100万以上の光ナノ共振器を作製することは困難と考えられてきました（図１）。

　これまでに、大阪府立大学のグループは、電子線リソグラフィ法を用いて作製された世界最高レベルのQ値を有する光ナノ共振器を研究してきました。
一方、産業技術総合研究所（略称：産総研）は、フォトリソグラフィ法と半導体製造プロセスを用いたシリコンフォトニクス研究において、世界トップレベルのエンジニアリング技術を保有し、国内最大のシリコンフォトニクス研究拠点として、産業応用を積極的に推し進めてきました。
本研究は、基礎研究と応用研究で世界を牽引するグループが協力することで、初めて可能となりました。
両グループがそれぞれの知識、技術を持ち寄り、融合させることで、フォトリソグラフィ法と半導体製造プロセスを用いて高Q値光ナノ共振器を作製するための最適な方法が考え出されました。
それぞれの強みを生かして、主に、産総研がデバイス設計とサンプル作製を担当し、大阪府立大学がデバイスの特性評価を担当しました。

　サンプル作製は、産総研スーパークリーンルーム（略称：SCR）のシリコンデバイス一貫試作ラインを利用しました（図２）。
最先端のArF液浸フォトリソグラフィ法（注８）と、現場の技術者が有するプロセスノウハウを生かして、大面積30 cmシリコンウエハー全面に、光ナノ共振器を高い精度で作製しました（図３）。
その結果、予想を大きく上回る、150万のQ値を得ることに成功しました（図４）。今後、共振器構造と作製プロセスの最適化を進めることで、これ以上のQ値も十分期待できます。

　本研究成果を受けて研究グループでは、今後、オープンイノベーション推進拠点である産総研SCRにおいて、多くの研究者が高Q値光ナノ共振器を研究できる体制を整えていき、フォトニック結晶デバイスの早期実用化を推進していく予定です。
国内のフォトニクス研究者の連携を強化することで、フォトニック結晶、シリコンフォトニクス技術に基づく新たなフォトニクス産業の創出が期待されます。

　本成果は、平成28年3月22日、東京工業大学で開催される応用物理学会の注目講演として発表される予定です。

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共同発表：アルケンのヒドロシリル化用鉄・コバルト触媒の開発に成功
http://www.jst.go.jp/pr/announce/20160216-3/index.html


九州大学 先導物質化学研究所の永島 英夫　教授の研究チームは、工業的なシリコーン製造の鍵反応とされる、アルケンのヒドロシリル化注１）反応に活性を持つ、貴金属を含まない新触媒注２）の開発に成功しました。
従来用いられている稀少資源で高価な白金触媒を、安価な非貴金属触媒で代替する、「元素代替」を実現した研究成果です。
この研究成果を受けて平成２８年２月より１年間、九州大学と信越化学工業株式会社は産学共同で本触媒の本格的な実用化検討に入ります。

本成果は、アメリカ化学会誌「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」の「ＪＡＣＳ　Ｓｐｏｔｌｉｇｈｔｓ」で、注目される論文としてオンライン速報版に掲載され、近日中に正式掲載されます。

本研究は、国立研究開発法人 科学技術振興機構（ＪＳＴ） 戦略的創造研究推進事業チーム型研究（ＣＲＥＳＴ）
「元素戦略を基軸とする物質・材料の革新的機能の創出」研究領域（研究総括：玉尾 皓平（理化学研究所　研究顧問・グローバル研究クラスタ長））における研究課題「有機合成用鉄触媒の高機能化」（研究代表者：永島 英夫　教授）による支援を受けて実施しました。

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